濺射蒸碳儀 掃描電鏡實(shí)驗(yàn)室樣品制備蒸發(fā)儀 濺射蒸碳分析儀
型號:HG19-ETD-2000C
是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的,zui簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時(shí)增加了熱蒸發(fā)附件,具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。
滿足電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備和非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。
特點(diǎn):
增加了熱蒸發(fā)附件,可以蒸發(fā)碳絲,具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴(kuò)展了應(yīng)用范圍,特別適用于掃描電鏡實(shí)驗(yàn)室樣品制備。
配置參數(shù):
- 儀器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H)
- 真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm(D×H)
- 靶(上部電極): 50mm×0.1mm(D×H)
- 樣品臺: 50mm (D)
- 操作真空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓: 0-1600V (DC)可調(diào)
- 濺射電流: 0-50mA
- 濺射定時(shí): 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A(AC)
- 真空泵: 4升兩級機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵(極限真空2×10-2mbar)
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